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光催化降解反應釜CY-GHX-DC光化學反應裝置

光催化降解反應釜CY-GHX-DC光化學反應裝置

更新時間:2021-05-26
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光催化降解反應釜CY-GHX-DC光化學反應裝置,光化學反應儀, 又稱為光化學反應釜,多功能光化學反應器.主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應。具有提供分析反應產(chǎn)物和自由基的樣品,測定反應動力學常數(shù),測定量子產(chǎn)率等功能,廣泛應用化學合成、環(huán)境保護以及生命科學等研究領域。

光催化降解反應釜CY-GHX-DC光化學反應裝置的詳細資料:

光催化降解反應釜CY-GHX-DC光化學反應裝置

技術參數(shù):

型號:CY-GHX-DC多功能控溫光化學反應儀

(一)主體部分

1.光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。

2.集成式光源控制器,可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

4.氙燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

5.金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

(二)小容量反應部分

1.石英試管規(guī)格:30ml、50ml(或定做)。

2.可同時處理8個樣品(或定做)。

3.八位磁力攪拌裝置可同步調(diào)節(jié)8個樣品的攪拌速度。

(三)大容量反應部分

1.玻璃反應器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。

2.大功率強力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

(四)控溫裝置

1.冷卻水循環(huán)裝置制冷量:>1000W

2.控溫范圍:-5°C到100°C

3.冷卻水循環(huán)裝置設有腳輪和底部排液閥。

大容量光化學反應儀產(chǎn)品配置:

配置單

數(shù)  

控制主機

1

反應暗箱

1

光源控制器

1

雙層石英冷阱

1

汞燈(1000W)

1

氙燈(1000W)

1

金鹵燈(500W)

1

攪拌裝置

1

樣品反應瓶

1只(250ml,500ml,1000ml可選)

反應罐

8只(30ml,50ml共8只)

 

光催化降解反應釜CY-GHX-DC光化學反應裝置

在操作、維護和儀器的所有階段,都必須遵守以下的基本安全措施。在儀器使用時應按照說明書來操作,違規(guī)使用會造成儀器的正常工作,至使儀器損壞。 
A、為了避免觸電事故,儀器的輸入電源線必須接地,本儀器使用的是三芯接地插頭,這種插頭有接地腳,如果插頭無法插入座內(nèi),則應請電工安裝正確的插座,不要使儀器失去接地保護作用。 
B、注意使用電源: 
在連接交流電源之前,要確保電壓與儀器所要求的電壓一致(允許±10%的偏差),并確保電源插座的額定負載不小于儀器要求。 
C、注意使用電源線: 
本儀器通常使用隨機附帶的電源線。如果電源線破損,必須更換不許修理。更換時必須用相同類型和規(guī)格的電源線代替。本儀器使用時電源線上不許放置任何物品。不要將電源線置于人員走動的地方。 
D、注意儀器的安放: 
本儀器應放在陰涼、通風、干燥、防塵較好的位置,為了更好的散熱效果,儀器通風處,于其它物品應保持有效距離(N﹥30cm)。 

 

光催化凈化技術主要是利用光催化劑二氧化欽(T'02)吸收外界輻射的光能,使其直接轉變?yōu)榛瘜W能。當能量大于Ti02禁帶寬度的光照射半導體時,光激發(fā)電子躍遷到導帶,形成導帶電子(e-),同時在價帶留下空穴階(h+)。由于半導體能帶的不連續(xù)性,電子和空穴的壽命較長,它們能夠在電場作用下或通過擴散的方式運動,與吸附在半導體催化劑粒子表面上的物質(zhì)發(fā)生氧化還原反應,或者被表面晶格缺陷俘獲??昭ê碗娮釉诖呋瘎┝W觾?nèi)部或表面也能直接復合,空穴能夠同吸附在催化劑粒子表面的月口一或HZO發(fā)生作用生成經(jīng)基自由基HO " , HO.是一種活性很高的粒子,能夠無選擇的氧化多種有機物并使之礦化。

由于光催化還屬于一種新興的技術,有很多因素還需要額外考慮,諸如納米光催化劑的制備技術、納米光催化劑的高活性和高壽命技術、納米光催化劑的固載化技術和納米光催化劑反應的設計技術,這些因素的實現(xiàn)勢必會使得凈化器價格攀升,從而影響推廣。然而該技術最大的不足在于,從利用太陽光效率的角度看,半導體的光吸收波長范圍狹窄,主要在紫外區(qū),利用太陽光的比例低;光生載流子的復合率很高,導致量子效率較低。

 


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